本发明公开了一种Y型228nm激光发射装置，包括808nm半导体激光器；前后面镀808nm增透膜的聚焦镜；前面镀914nm高反膜，808nm、1064nm和1342nm增透膜，后面镀914nm高反膜，1064nm和1342nm增透膜的Nd : YVO4；前面镀入射角为15°时914nm高反膜，457nm、1064nm和1342 nm增透膜，后面镀入射角为15°时228nm高反膜，457nm增透膜的平面镜；前后面镀457nm和914nm增透膜的LBO；凹面镀457nm和914nm高反膜的平凹镜；前后面镀228nm和457nm增透膜的BBO；凹面镀457nm高反膜、228nm增透膜，平面镀228nm高反膜的平凹镜；中心波长为228nm±5nm滤光片。该装置实现了228nm激光发射。