专利名称 | 一种制备依替巴肽的新型还原-氧化体系 | ||
申请号 | CN201510421939.X | 申请日 | |
公开(公告)号 | CN105001304B | 公开(公告)日 | 2015-07-19 |
申请(专利权)人 | 发明人 | 张颖; 王德龙; 王仁友; 李同金; 石鑫磊 | |
专利来源 | 国家知识产权局 | 转化方式 | |
摘要 |
本发明涉及多肽合成领域,特别涉及一种制备依替巴肽的新型还原‑氧化体系。本发明针对依替巴肽在裂解过程中容易产生二聚体杂质,导致粗肽纯化难度高,产品收率低等问题,提供了一种利用新型氧化还原体系制备依替巴肽的技术方案,该方案采用Fmoc固相合成法合成依替巴肽线性肽,首先将此线性肽溶液用DTT将二聚体的分子间二硫键还原,然后调节溶液pH,加入氧化剂进行氧化形成分子内二硫键,即得依替巴肽粗肽产品;最后粗肽经制备色谱纯化、转盐、冻干得依替巴肽精肽。该制备方法操作简单,所得精肽产品纯度和收率均较高,易于规模放大化生产。 |
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