专利名称 | 一种依托度酸光降解杂质及其制备方法 | ||
申请号 | CN201811451706.4 | 申请日 | |
公开(公告)号 | CN109485616A | 公开(公告)日 | 2018-11-30 |
申请(专利权)人 | 发明人 | 张贵民; 郝大伟; 刘东 | |
专利来源 | 国家知识产权局 | 转化方式 | |
摘要 |
本发明属于生物医药领域,具体涉及一种依托度酸光降解杂质及其制备方法。本发明采用将依托度酸溶解在有机溶剂中,在有氧的条件下进行光照破坏,并采用超临界流体色谱分离纯化即可得到高纯度的依托度酸光降解杂质。本发明所得依托酸酸光降解杂质总收率超过48%,超临界流体色谱纯化收率超过90%,所得依托度酸光降解杂质纯度高达99.01%。 |
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