专利名称 | 放射性卤素标记化合物的制造方法及放射性医药的制造方法 | ||
申请号 | CN201880040465.6 | 申请日 | |
公开(公告)号 | CN110809575A | 公开(公告)日 | |
申请(专利权)人 | 日本医事物理股份有限公司 | 发明人 | 奥村侑纪; 中村大作; 桐生真登; 市川浩章; 殿谷豪太; 杉本尚美 |
专利来源 | 国家知识产权局 | 转化方式 | |
摘要 |
本发明提供放射性卤素标记化合物的制造方法,其包含以下的工序:通过对于具备有可利用放射性卤化物离子(X‑)而进行亲核取代的离去基团(L)的放射性卤素标记前体化合物(S‑L),实行放射性卤化反应,从而获得包含放射性卤素标记前体化合物(S‑L)与放射性卤化反应的反应产物(S‑X)的反应混合物RM1的工序;通过将反应混合物RM1与多元酸或其盐进行混合,从而获得反应混合物RM2的工序;以及利用固相萃取法,从反应混合物RM2中将反应产物(S‑X)进行纯化的工序。 |
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