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专利概况
专利名称 单晶铟纳米线的制备方法及其产品和应用
申请号 CN201711085500.X 申请日
公开(公告)号 CN107841791B 公开(公告)日
申请(专利权)人 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 发明人 何丹农; 卢静; 涂兴龙; 金彩虹
专利来源 国家知识产权局 转化方式
摘要

本发明涉及一种单晶铟纳米线的制备方法及其产品和应用,本发明以锌片和铟源为前驱体,以硫源为辅助剂,通过控制溶剂热的温度和时间,即可制备出由一层硫化物包裹的单晶铟纳米线。本发明通过溶剂热法大批量制备出单晶铟纳米线的长度为100‑300μm,平均直径约为200nm,具有极高的长径比。并且该制备过程具有简单,安全可靠,无毒无污染,成本较低和可重复性性好等优点。生成的铟纳米线经盐酸腐蚀去掉表面硫化物后,可进一步合成为In2O3,In2S3,InP,InAs等半导体,这些化合物在各种合金的制造、半导体材料的合成、红外线检测器等领域都具有巨大的应用前景。

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