本实用新型公开了一种应用于掺杂类金刚石薄膜制备设备的电极，包括安装在真空腔室顶端的阳极，及安装在真空腔室底端的阴极；所述阳极设置为螺旋电极，且与射频电源连接；所述阴极设置为样品台，且与脉冲偏压电源电连接。本实用新型利用螺旋电极作为电极阳极，样品台作为电极阴极，能够与中频磁控溅射技术良好结合，具有结构简单、基材温升低、膜基结合好、成膜均匀，工艺可重复性好，易于精确控制镀层厚度，易于控制元素掺杂量等优点。